[发明专利]曝光装置和图像形成装置有效
申请号: | 200910173905.8 | 申请日: | 2009-09-17 |
公开(公告)号: | CN101844457A | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
发明(设计)人: | 坂本哲也 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | B41J2/45 | 分类号: | B41J2/45;G03G15/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 顾红霞;龙涛峰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了一种曝光装置和图像形成装置,所述曝光装置设置有:曝光单元,其具有一端和另一端并且包括沿着第一方向排列的多个发光元件,用于对图像载体进行曝光,所述第一方向是可旋转的所述图像载体的旋转轴的方向;一端侧保持部分,其保持位于所述曝光单元的一端侧的一端部分;第一基准部分,其形成在所述一端侧保持部分中并且用作下述基准:即,通过使所述曝光单元的所述一端部分与所述第一基准部分相接触而沿着所述第一方向定位所述曝光单元的基准;以及施力部分,其对所述曝光单元的所述一端部分施加将所述曝光单元的所述一端部分按压在所述第一基准部分上的力。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 图像 形成 | ||
【主权项】:
一种曝光装置,包括:曝光单元,其具有一端和另一端并且包括沿着第一方向排列的多个发光元件,用于对图像载体进行曝光,所述第一方向是可旋转的所述图像载体的旋转轴的方向;一端侧保持部分,其保持位于所述曝光单元的一端侧的一端部分;第一基准部分,其形成在所述一端侧保持部分中并且用作下述基准:即,通过使所述曝光单元的所述一端部分与所述第一基准部分相接触而沿着所述第一方向定位所述曝光单元的基准;以及施力部分,其对所述曝光单元的所述一端部分施加将所述曝光单元的所述一端部分按压在所述第一基准部分上的力。
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