[发明专利]光雕片信号偏移校正方法无效
| 申请号： | 200910174047.9 | 申请日： | 2009-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN102044269A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 赖俊文;蔡家怡;郭起祥 | 申请（专利权）人： | 广明光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B7/09 | 分类号： | G11B7/09 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 史新宏 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光雕片信号偏移校正方法，利用内环幅丝(spoke)信号计数，至预定记号部读取外环信息图案，测量信息图案信号偏移量。检查已经过预定个的内环幅丝信号，未达到则续测量信号偏移量，达到则计算平均信号偏移量。利用平均信号偏移量，在光雕片径向校正或解码校正时，校正外环信息图案的信号偏移。 | ||
| 搜索关键词： | 光雕片 信号 偏移 校正 方法 | ||
【主权项】：
一种光雕片信号偏移校正方法，其步骤包含：(1)利用内环幅丝信号计数，至预定记号部读取外环信息图案；(2)测量信号偏移量；(3)检查是否已经过预定个的内环幅丝信号 若未达到则回到步骤(2)，如果达到则进入步骤(4)；(4)计算平均信号偏移量；及(5)利用平均信号偏移量校正外环信息图案的信号偏移。
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