[发明专利]一种激光两坐标装置有效
申请号: | 200910176442.0 | 申请日: | 2009-09-15 |
公开(公告)号: | CN102004027A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 薛梓;叶孝佑;林琳;王鹤岩;孙双花;高宏堂;杨国梁 | 申请(专利权)人: | 中国计量科学研究院 |
主分类号: | G01M11/00 | 分类号: | G01M11/00 |
代理公司: | 北京振安创业专利代理有限责任公司 11025 | 代理人: | 祁纯阳 |
地址: | 100013*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了满足高精度、大行程和微步距、可对二维光学线纹标准器(或掩膜板、网格板)进行高精度测量和溯源的激光两坐标标准装置。包括基座,关键是基座平面上设有具X、Y方向的共面气浮位移平台,气浮位移平台上设有零膨胀玻璃平台,被测件放置在零膨胀玻璃平台上,基座置于4个气浮脚支承上,气浮位移平台设有可X、Y方向位移的驱动装置,气浮位移平台上还有满足阿贝原则的激光测量装置和光学成像装置。本发明所使用的激光位置反馈分辨率为10nm,测长分辨率为0.3nm,保证整个系统实现大行程、微步距及纳米级的定位精度。 | ||
搜索关键词: | 一种 激光 坐标 装置 | ||
【主权项】:
一种激光两坐标装置,包括基座(1),其特征在于基座(1)平面上设有具X、Y方向的共面气浮位移平台(3、4),气浮位移平台上设有零膨胀玻璃平台(5),基座(1)置于4个气浮脚支承(2)上,气浮位移平台设有可X、Y方向位移的驱动装置,气浮位移平台上还有满足阿贝原则的激光测量装置(17)和光学成像装置(16)。
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