[发明专利]光学涡旋延迟器微阵列有效
| 申请号： | 200910177516.2 | 申请日： | 2009-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN101672947A | 公开（公告）日： | 2010-03-17 |
| 发明（设计）人： | 大卫·M.·西蒙;斯科特·迈克尔东尼 | 申请（专利权）人： | JDS尤尼弗思公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人： | 郑小粤 |
| 地址： | 美国加利福尼亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 通过形成具有多个分立取向斑块的取向层来提供一种光学涡旋延迟器的微阵列，所述多个分立取向斑块具有不同的方向。包括液晶和液晶聚合物前体材料之一的双折射材料层被设置成相邻于取向层。在所述多个分立取向斑片中的每个分立取向斑片的取向方向和位置被选择成促使双折射材料层形成相邻于取向层的实质上非定向的区的至少一个光学涡旋延迟器。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 涡旋 延迟 阵列 | ||
【主权项】：
1.一种制造光学涡旋延迟器的方法，其包括：形成具有第一多个分立取向斑片的取向层，所述第一多个分立取向斑片包括具有第一取向方向的第一取向斑片和具有第二另一取向方向的第二取向斑片；以及提供相邻于所述取向层的双折射材料层，所述双折射材料包括液晶和液晶聚合物前体材料之一，其中，对所述第一多个分立取向斑片中的每个分立取向斑片的取向方向和位置进行选择，以促使所述双折射材料层形成相邻于所述取向层的实质上非定向的区的至少一个光学涡旋延迟器。
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