[发明专利]光刻设备和方法有效
| 申请号： | 200910178002.9 | 申请日： | 2009-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN101685268A | 公开（公告）日： | 2010-03-31 |
| 发明（设计）人： | N·N·伊欧萨德;桂成群 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和方法。所述方法包括步骤：使用至少表示器件的构成部分的所期望的形状或尺寸的信息来实现器件的构成部分的所期望的形状或尺寸，所期望的形状或尺寸与材料层的被测量的性质相关，在所述材料层中将生成器件的构成部分，所述实现过程的至少一部分包括确定多个独立可控元件的配置的步骤，所述多个独立可控元件将需要在辐射束中生成图案，所述图案足以在生成器件的构成部分时实现器件的构成部分的所期望的形状或尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻方法，所述方法包括步骤：使用至少表示器件的构成部分的所期望的形状或尺寸的信息来实现所述器件的构成部分的所期望的形状或尺寸，所述所期望的形状或尺寸与材料层的被测量的性质相关，在所述材料层中将生成所述器件的构成部分，所述实现过程的至少一部分包括确定多个独立可控元件的配置的步骤，所述多个独立可控元件将需要在辐射束中生成图案，所述图案足以在生成所述器件的构成部分时实现所述器件的构成部分的所期望的形状或尺寸。
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