[发明专利]彩色滤光片形成于薄膜晶体管阵列基板上的制造方法有效
| 申请号： | 200910178087.0 | 申请日： | 2009-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN101661204A | 公开（公告）日： | 2010-03-03 |
| 发明（设计）人： | 黄彦衡;陈宗凯;白佳蕙;曾文贤;郑为元 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1368;H01L21/82 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所（普通合伙） | 代理人： | 翟 羽;唐秀萍 |
| 地址： | 台湾省新竹市新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种彩色滤光片形成于薄膜晶体管阵列基板上的制造方法，所述薄膜晶体管阵列基板具有若干个画素单元且每一画素单元由至少一第一画素区及一第二画素区组成，其特征在于，所述制造方法包含以下步骤：形成第一图案化色阻层于所述薄膜晶体管阵列基板上，其中所述第一图案化色阻层覆盖所述第一画素区并形成所述第二画素区的容纳区；以及以喷墨方式将第二色阻层喷涂于所述第二画素区的容纳区中。 | ||
| 搜索关键词： | 彩色 滤光 形成 薄膜晶体管 阵列 基板上 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种彩色滤光片形成于薄膜晶体管阵列基板上的制造方法，所述薄膜晶体管阵列基板具有若干个画素单元且每一画素单元由至少一第一画素区及一第二画素区组成，其特征在于，所述制造方法包含以下步骤：形成第一图案化色阻层于所述薄膜晶体管阵列基板上，其中所述第一图案化色阻层覆盖所述第一画素区并形成所述第二画素区的容纳区；以及以喷墨方式将第二色阻层喷涂于所述第二画素区的容纳区中。
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