[发明专利]非真空铜铟镓硒薄膜密实方法无效
| 申请号： | 200910180729.0 | 申请日： | 2009-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN102039264A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 陈文仁 | 申请（专利权）人： | 正峰新能源股份有限公司 |
| 主分类号： | B05D3/12 | 分类号： | B05D3/12;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京华夏博通专利事务所 11264 | 代理人： | 刘俊 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种非真空铜铟镓硒薄膜密实方法，在非真空下，针对经软烤后包含有铜铟镓硒吸收层的基板，利用至少一气压缸提供气压产生动力以推动连结在气压缸上的连动支架，用连动支架上的滚轮施加压力而下压在铜铟镓硒吸收层上，并来回移动基板而让滚轮对铜铟镓硒吸收层进行均匀滚压以薄膜密实化铟镓硒吸收层，且滚轮的压力及直径需在适当范围内，以达到最佳的均匀滚压效果，滚轮外部需涂布刚性材料层以保护滚轮的轮面，因而经薄膜密实化的铜铟镓硒吸收层具有较高的转换效率，解决铜铟镓硒吸收层因具有较多晶界所引起的低转换效率问题。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 铜铟镓硒 薄膜 密实 方法 | ||
【主权项】：
一种非真空铜铟镓硒薄膜密实方法，其特征在于，包括：在非真空下利用至少一气压缸提供气压而产生动力，以推动连结在气压缸上的连动支架，该连动支架连结滚轮，而该滚轮受连动支架的推动而向下移动以压合位于该滚轮底下的基板，该基板的上表面具有铜铟镓硒吸收层；以及来回移动基板，使滚轮对铜铟镓硒吸收层进行均匀滚压，以薄膜密实化该铜铟镓硒吸收层；其中该铜铟镓硒吸收层为利用包含铜铟镓硒材料的铜铟镓硒浆料或墨水而沈积形成，并经软烤烘干处理，该滚轮为陶瓷滚轮，或该滚轮的外部经热处理以增加刚性，或涂布刚性材料层，以保护滚轮的轮面。
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