[发明专利]六角形硅片的制造方法有效
申请号: | 200910183893.7 | 申请日: | 2009-07-24 |
公开(公告)号: | CN101643940A | 公开(公告)日: | 2010-02-10 |
发明(设计)人: | 王兴龙 | 申请(专利权)人: | 常州银河半导体有限公司 |
主分类号: | C30B33/10 | 分类号: | C30B33/10;C30B29/64;G03F7/20;G03F7/32;G03F7/40 |
代理公司: | 常州市天龙专利事务所有限公司 | 代理人: | 夏海初 |
地址: | 213022江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明所公开的是一种六角形硅片的制造方法,以经过合金化处理的扩散片为加工对象,且依次包括如下步骤:上胶,光刻,显影,坚膜,酸腐蚀,清洗,剥离;以其所述光刻步骤所采用的基准板,是具有六角形蜂窝状图纹的基准板,且其具有六角形蜂窝状图纹区的边缘,与所述扩散片的边缘之间保持距离;所述光刻步骤,是将扩散片布置在2块经校整重合其六角形蜂窝状图纹的基准板之间,所实施的双面同步光刻为主要特征。本发明具有产成品成型正确,生产成本低、原料硅片利用率高等特点。 | ||
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【主权项】:
1、一种六角形硅片的制造方法,以经过合金化处理的扩散片为加工对象,且依次包括如下步骤:上胶,光刻,显影,坚膜,酸腐蚀,清洗,剥离;其特征在于:a、所述光刻步骤所采用的基准板,是具有六角形蜂窝状图纹的基准板,且其具有六角形蜂窝状图纹区的边缘,与所述扩散片的边缘之间保持距离;b、所述光刻步骤,是将所述扩散片布置在2块经校整重合其六角形蜂窝状图纹的基准板之间,所实施的双面同步光刻。
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