[发明专利]用于193纳米波长光刻技术的抗反光涂层及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种用于193纳米波长光刻技术的抗反光涂层及其制备方法和应用。应用含在193纳米波长具有光吸收发色基团的硅烷前驱体，或将发色基团接枝到非发色性硅烷生成发色性硅烷前驱体，或将发色性聚合物与硅烷前驱体的溶胶混合生成发色混合物，通过溶胶-凝胶法制得溶胶母液，将该溶胶母液与交联剂、交联催化剂、表面活性剂混合，即配制得本发明的193纳米波长光刻技术的抗反光涂层，应用于硅片或其他介质上。

主权项

一种用于193纳米波长光刻技术的抗反光涂层，包括：溶胶母液、溶剂、交联剂、交联催化剂，其特征在于：所述溶胶母液由含193纳米波长发色基团的硅烷前驱体，或将193纳米波长发色基团接枝到非发色性硅烷上生成的发色性硅烷前驱体，或将发色性聚合物与非发色性溶胶混合物，通过溶胶‑凝胶法制备而成；其中：所述交联剂含量为溶胶母液溶质重量的5％‑35％，所述交联催化剂为溶胶母液溶质重量的0.1％‑5％。