[发明专利]一种基于130nm CMOS技术加工的双模带通滤波器无效

专利信息
申请号: 200910186543.6 申请日: 2009-11-24
公开(公告)号: CN101728605A 公开(公告)日: 2010-06-09
发明(设计)人: 王杉;刘海文;史丽云 申请(专利权)人: 华东交通大学
主分类号: H01P1/20 分类号: H01P1/20
代理公司: 南昌市平凡知识产权代理事务所 36122 代理人: 姚伯川
地址: 330013 *** 国省代码: 江西;36
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摘要: 一种基于130nm CMOS技术加工的双模带通滤波器,所述双模带通滤波器采用等边三角形的双模贴片滤波器,并在等边三角形顶端处增加微扰,通过改变贴片的长度L2,使得通带的中心频率在60GHZ。所述双模带通滤波器使用传统的130nm CMOS加工技术时,在介质层的最下面一层与衬底之间增加了一层接地板M1;所述双模带通滤波器使用传统的130nm CMOS加工技术时,比传统工艺顶端的金属层M7厚度增厚1-2倍,有效地减少信号的传输损耗。本发明适用应用于雷达系统。
搜索关键词: 一种 基于 130 nm cmos 技术 加工 双模 带通滤波器
【主权项】:
一种基于130nm CMOS技术加工的双模带通滤波器,其特征在于,所述双模带通滤波器采用等边三角形的双模贴片滤波器,并在等边三角形顶端处增加微扰,通过改变贴片的长度L2,使得通带的中心频率在60GHZ。
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