[发明专利]一种基于130nm CMOS技术加工的双模带通滤波器无效
申请号: | 200910186543.6 | 申请日: | 2009-11-24 |
公开(公告)号: | CN101728605A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 王杉;刘海文;史丽云 | 申请(专利权)人: | 华东交通大学 |
主分类号: | H01P1/20 | 分类号: | H01P1/20 |
代理公司: | 南昌市平凡知识产权代理事务所 36122 | 代理人: | 姚伯川 |
地址: | 330013 *** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 一种基于130nm CMOS技术加工的双模带通滤波器,所述双模带通滤波器采用等边三角形的双模贴片滤波器,并在等边三角形顶端处增加微扰,通过改变贴片的长度L2,使得通带的中心频率在60GHZ。所述双模带通滤波器使用传统的130nm CMOS加工技术时,在介质层的最下面一层与衬底之间增加了一层接地板M1;所述双模带通滤波器使用传统的130nm CMOS加工技术时,比传统工艺顶端的金属层M7厚度增厚1-2倍,有效地减少信号的传输损耗。本发明适用应用于雷达系统。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 130 nm cmos 技术 加工 双模 带通滤波器 | ||
【主权项】:
一种基于130nm CMOS技术加工的双模带通滤波器,其特征在于,所述双模带通滤波器采用等边三角形的双模贴片滤波器,并在等边三角形顶端处增加微扰,通过改变贴片的长度L2,使得通带的中心频率在60GHZ。
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