[发明专利]一种化学水浴沉积硫化镉薄膜的方法有效
申请号: | 200910188471.9 | 申请日: | 2009-11-30 |
公开(公告)号: | CN102080221A | 公开(公告)日: | 2011-06-01 |
发明(设计)人: | 蔡志炬;曹文玉;周勇 | 申请(专利权)人: | 比亚迪股份有限公司 |
主分类号: | C23C18/00 | 分类号: | C23C18/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518118 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明为解决化学水浴沉积得到的硫化镉薄膜表面常吸附有固体颗粒的技术问题,提供一种化学水浴沉积硫化镉薄膜的方法,包括如下步骤:首先,将衬底浸入到T1=75~90℃的0.1~0.5mol/L的氨水中,所述氨水含有二价镉的可溶性盐和铵盐,二价镉的可溶性盐浓度为0.001~0.01mol/L,铵盐浓度为0.01~0.1mol/L;然后,向上步得到的溶液中加入硫脲,使溶液中S2-的摩尔浓度与Cd2+的摩尔浓度满足[S2-]:[Cd2+]=1~6,在T1=75~90℃搅拌进行成膜反应,当体系从溶液变成胶体时,降温至T2=55~70℃继续成膜反应,直到衬底上沉积的硫化镉薄膜的厚度达到预定值时,反应结束;取出沉积了硫化镉薄膜的衬底,清洗、干燥。本发明使面积1cm2的硫化镉薄膜表面平均吸附的颗粒个数小于2个。另外,本发明的方法得到的薄膜的均匀性和对基体的附着力也有改善。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 水浴 沉积 硫化 薄膜 方法 | ||
【主权项】:
化学水浴沉积硫化镉薄膜的方法,包括如下步骤:首先,将衬底浸入到温度为T1=75~90℃的浓度为0.1~0.5mol/L的氨水中,所述氨水含有二价镉的可溶性盐和铵盐,其中,二价镉的可溶性盐浓度为0.001~0.01mol/L,铵盐浓度为0.01~0.1mol/L;然后,向上步得到的溶液中加入硫脲,使溶液中S2‑的摩尔浓度与Cd2+的摩尔浓度满足[S2‑]:[Cd2+]=1~6,在T1=75~90℃搅拌进行成膜反应,当体系从溶液变成胶体时,降温至T2=55~70℃继续成膜反应,直到衬底上沉积的硫化镉薄膜的厚度达到预定值时,反应结束;最后,取出沉积了硫化镉薄膜的衬底,并清洗、干燥。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于比亚迪股份有限公司,未经比亚迪股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910188471.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电镀夹具及印制线路板电镀系统
- 下一篇:一种晾衣架
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理