[发明专利]栅氧控片清洗方法及装置无效
| 申请号： | 200910188496.9 | 申请日： | 2009-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN102085517A | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | 刘文宏 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 何平 |
| 地址： | 214000 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种栅氧控片清洗方法及装置，该方法包括：对回收的栅氧控片只进行再次使用前的清洗。该装置为标准栅氧清洗机台，用于对回收的栅氧控片只进行再次使用前的清洗。上述栅氧控片清洗方法及装置，采用对回收的栅氧控片只进行再次使用前的清洗，这样清洗简单，既保证了栅氧控片的品质，也提高了效率，降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 栅氧控片 清洗 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种栅氧控片清洗方法，包括：对回收的栅氧控片只进行再次使用前的清洗。
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