[发明专利]一种不锈钢衬底的精密抛光方法有效
| 申请号： | 200910194558.7 | 申请日： | 2009-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN101642893A | 公开（公告）日： | 2010-02-10 |
| 发明（设计）人： | 胡晓凯;宋志棠;刘卫丽 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;C09G1/02;C09K3/14;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所 | 代理人： | 黄志达;宋 缨 |
| 地址： | 200050*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种不锈钢衬底的精密抛光方法，包括：按比例配制抛光液；将待抛光的不锈钢衬底5固定于抛光头4底部，加压装置7将抛光头4作用于抛光台6上，并且抛光台6、抛光头4在转动装置带动下旋转，同时抛光液2被输送至抛光垫1表面，使抛光液2、抛光垫1及不锈钢衬底5三者充分接触；将不锈钢衬底5表面进行化学机械抛光至表面完全成镜面，立即清洗即可。经本发明抛光后的不锈钢衬底，其表面平整光滑，均方根粗糙度仅0.7纳米，克服了其他抛光方法所无法满足的平坦度及粗糙度的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 不锈钢 衬底 精密 抛光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种不锈钢衬底的精密抛光方法，包括：(1)抛光液的配制；(2)将待抛光的不锈钢衬底5固定于抛光头4底部，加压装置7将抛光头4作用于抛光台6上，并且抛光台6、抛光头4在转动装置带动下旋转，同时抛光液2被输送至抛光垫1表面，使抛光液2、抛光垫1及不锈钢衬底5三者充分接触；抛光工艺参数：抛光台6转速40～200转/分钟；抛光头4转速40～200转/分钟，并且抛光头4与抛光台6转速大致相等；不锈钢衬底5作用于抛光垫1表面的下压力为1psi～10psi(psi为压强单位：磅/平方英寸)；抛光液2供给流量为20～200毫升/分钟；抛光液2温度为室温～沸点温度；(3)将不锈钢衬底5表面化学机械抛光10分钟～60分钟，当不锈钢表面完全成镜面时抛光进程即可终止，随后立即彻底清洗不锈钢抛光片，即可。
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