[发明专利]化学机械抛光系统无效
| 申请号： | 200910194798.7 | 申请日： | 2009-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN102001035A | 公开（公告）日： | 2011-04-06 |
| 发明（设计）人： | 蒋莉;李杰;臧伟 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B29/02;B24B57/02;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郑立柱 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种化学机械抛光系统，包括：外罩；位于所述外罩内的化学机械抛光装置；所述化学机械抛光系统还包括超声波喷雾器，用于向所述外罩内喷雾。本发明在现有的化学机械抛光系统上增加了用于医学领域的超声波喷雾器，使得外罩内的环境湿度足够大，这样研磨液不易粘在研磨头上凝结成结晶化的颗粒，或者即便研磨头上粘有结晶化的颗粒，在一个湿度足够大的环境内，也容易地用去离子水冲洗掉，避免了结晶化的颗粒掉落到研磨垫上，刮伤晶圆表面。本发明极大地降低了化学机械抛光工艺中晶圆表面发生刮伤的概率，简化了工艺过程，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 系统 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光系统，包括：外罩；位于所述外罩内的化学机械抛光装置；其特征在于，所述化学机械抛光系统还包括超声波喷雾器，用于向所述外罩内喷雾。
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