[发明专利]具有缺陷分类能力的硅片表面缺陷检测仪及缺陷分类方法

摘要

一种具有缺陷分类能力的硅片表面缺陷检测仪及缺陷分类方法，采用一束激光从倾斜方向聚焦照射置于高稳定硅片工作平台上的待测硅片的平面表面，由硅片表面缺陷所产生的散射光分别在沿接近硅片表面法线的方向和接近平行硅片表面的方向被两个口径不同的抛物面镜进行圆形窄通道收集和环形宽通道收集。由两个光电探测器分别测得两个通道收集到的光电信号的强度并对两个强度取比值，然后通过将该比值与一事先设定的阈值进行比较，即可对硅片表面的缺陷进行分类。该缺陷检测仪具有结构简单、灵敏度高、检测速度快、能对硅片表面缺陷进行分类等优点。

主权项

1、一种具有缺陷分类能力的硅片表面缺陷检测仪，其构成包括：在激光光源组件(1)发出的光束前进的方向上，依次有隔离器(2)、双凹透镜(3)和第一平凸透镜(4)组成的扩束系统、双胶合聚焦透镜(6)和平面反射镜(9)；待测量硅片(10)位于能同时进行旋转和平动的硅片工作台(11)上；光束经所述的平面反射镜(9)转折倾斜聚焦入射在待测量硅片(10)表面，在待测量硅片(10)的反射光方向上设有一光学陷阱(15)，在所述的待测量硅片(10)表面缺陷所产生的散射光方向被第二平凸透镜(8)准直形成准直光束，其特征在于：在所述的的准直光束方向依次是小抛物面镜(7)和大抛物面镜(5)，第二光电探测器(14)位于所述的小抛物面镜(7)的焦平面，第一光电探测器(12)位于所述的大抛物面镜(5)的焦平面，位于所述的准直光束的中心内圆区域的小抛物面镜(7)将所述的中心内圆区域的准直光束反射聚焦于第二光电探测器(14)构成散射光内圆形窄通道收集；而其余外环部分的准直光束则由所述的大抛物面镜(5)反射聚焦于第一光电探测器(12)构成散射光环形宽通道收集，所述的第二光电探测器(14)和第一光电探测器(12)的输出端均连接计算机(13)。