[发明专利]透射电子显微镜样品的制备方法有效

专利信息
申请号: 200910196198.4 申请日: 2009-09-23
公开(公告)号: CN102023108A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 庞凌华;段淑卿;王玉科;杨卫明;李剑 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28;G01N1/32
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李丽
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种透射电子显微镜样品的制备方法,包括:提供具有长度、宽度、厚度的样品,所述样品的待观测区域内具有至少一个沿所述厚度方向的伸长结构或者多层堆叠结构;对所述样品的待观测区域进行标记;以垂直于所述伸长结构的伸长方向或堆叠结构的堆叠方向的方向对所述样品进行研磨,至露出所述标记;在研磨面上所述待观测区域两侧分别形成凹坑;沿所述凹坑对所述标记区域的样品部分进行减薄,至特定厚度;将所述减薄后的待观测区域的样品部分分离取出。本发明提高了制备效率和观测效果,制备过程中进一步在样品的表面加装保护盖,防止了样品在研磨过程中受到损伤,也避免了制备完成后取出待观测区域样品时容易脱落弹出的问题。
搜索关键词: 透射 电子显微镜 样品 制备 方法
【主权项】:
一种透射电子显微镜样品的制备方法,其特征在于,包括:提供具有长度、宽度、厚度的样品,所述样品的待观测区域内具有至少一个沿所述厚度方向的伸长结构或者多层堆叠结构;在所述样品表面对所述待观测区域进行标记,所述标记区域的面积大于所述待观测区域;沿垂直于所述伸长结构的伸长方向或堆叠结构的堆叠方向的方向对所述样品进行研磨,至露出所述标记;在研磨面上、所述待观测区域两侧分别形成凹坑,所述凹坑沿样品厚度方向的尺寸至少大于所述伸长结构的伸长长度或者多层堆叠结构的堆叠厚度;沿所述凹坑对所述标记区域的样品部分进行减薄,至特定厚度,所述减薄方向垂直于所述伸长结构的伸长方向或堆叠结构的堆叠方向;将所述减薄后的标记区域的样品部分分离取出。
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