[发明专利]一种集成滤光微结构的InGaAs线列或面阵探测器有效

专利信息
申请号: 200910197301.7 申请日: 2009-10-16
公开(公告)号: CN101692456A 公开(公告)日: 2010-04-07
发明(设计)人: 李雪;唐恒敬;方家熊;龚海梅;段微波;刘定权;张永刚 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: H01L27/144 分类号: H01L27/144;H01L31/105;H01L31/0232;H01L31/18
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 郭英
地址: 20008*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种集成滤光微结构的InGaAs线列或面阵探测器,它由InP衬底、N型InP层、氮化硅钝化层、InGaAs吸收层、P型InP帽层、P电极区、中心波长在λ1的Si/SiO2滤光微结构薄膜、中心波长在λ2的Si/SiO2滤光微结构薄膜和P电极互连层和N电极区组成。滤光微结构是基于法布里-珀罗谐振腔结构设计的带通型滤光片,选用Si和SiO2作为高折射率(nH)材料和低折射率(nL)材料。本发明的优点:滤光片微结构直接生长在InGaAs探测器芯片上,避免了多波段之间可能存在的“串色”和杂散光的进入,同时有利于两个波段尽可能靠近,缩短对同一目标探测的时间延迟。
搜索关键词: 一种 集成 滤光 微结构 ingaas 探测器
【主权项】:
一种集成滤光微结构的InGaAs线列或面阵探测器,它由InP衬底(5)、N型InP层(6)、氮化硅钝化层(7)、InGaAs吸收层(8)、P型InP帽层(9)、P电极区(10)、中心波长在λ1的Si/SiO2滤光微结构薄膜(11)、中心波长在λ2的Si/SiO2滤光微结构薄膜(12)和P电极互连层(2)和N电极区(3)组成,其特征在于:所述的InGaAs线列或面阵探测器在氮化硅钝化层(7)上集成有滤光微结构薄膜。
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