[发明专利]一种控制研磨工艺的方法有效
申请号: | 200910197629.9 | 申请日: | 2009-10-23 |
公开(公告)号: | CN102039558A | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | 李健;李勇 | 申请(专利权)人: | 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司 |
主分类号: | B24B51/00 | 分类号: | B24B51/00;H01L21/304 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
地址: | 214061 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种控制研磨工艺的方法,所述研磨工艺包括主研磨步骤与过研磨步骤,所述方法包括如下步骤:根据待研磨层厚度计算主研磨步骤的时间范围;设置主研磨步骤的最大允许时间,所述最大允许时间的值大于主研磨时间范围的最大值;在实施主研磨工艺的过程中监控研磨时间,当主研磨步骤的实施时间达到最大允许时间时,立即停止主研磨工艺。本发明的优点在于,所监控的研磨时间仅仅是主研磨时间,而并不涵盖过研磨的时间,由于在达到研磨终点之后实际上还需要实施一步过研磨工艺,因此能够尽力避免过研磨而导致晶圆报废的情况发生。 | ||
搜索关键词: | 一种 控制 研磨 工艺 方法 | ||
【主权项】:
一种控制研磨工艺的方法,所述研磨工艺包括主研磨步骤与过研磨步骤,其特征在于,所述方法包括如下步骤:根据待研磨层厚度计算主研磨步骤的时间范围;设置主研磨步骤的最大允许时间,所述最大允许时间的值大于主研磨时间范围的最大值;在实施主研磨工艺的过程中监控研磨时间,当主研磨步骤的实施时间达到最大允许时间时,立即停止主研磨工艺。
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