[发明专利]一种光刻版有效
| 申请号： | 200910199999.6 | 申请日： | 2009-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN102087468A | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | 程洁;黄宜斌 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李丽 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光刻版，所述光刻版包括基板和位于基板上的多组检测单元；所述基板包括第一区和第二区，且采用所述光刻版对衬底上的光刻胶进行曝光，形成的与第一区对应的光刻胶图形位于衬底第一区域，形成的与第二区对应的光刻胶图形位于衬底第二区域；所述检测单元至少由2种条形组组成，每条形组内的条宽相同，每条形组内的条形组间隔相同；至少有一组检测单元位于第一区，至少有一组检测单元位于第二区。本发明能够检测多种材料区域的光刻效果，避免了因不同材料区域的图形异常情况未被检测出来而导致衬底在后续工艺中报废或者出现成品率低下的现象出现。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 | ||
【主权项】：
一种光刻版，其特征在于，包括：所述光刻版包括基板和位于基板上的多组检测单元；所述基板包括第一区和第二区，且采用所述光刻版对衬底上的光刻胶进行曝光，形成的与第一区对应的光刻胶图形位于衬底第一区域，形成的与第二区对应的光刻胶图形位于衬底第二区域；所述检测单元至少由2种条形组组成，每条形组内的条宽相同，每条形组内的条形组间隔相同；至少有一组检测单元位于第一区，至少有一组检测单元位于第二区。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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