[发明专利]一种用于多晶硅抛光的化学机械抛光液有效
申请号: | 200910200823.8 | 申请日: | 2009-12-25 |
公开(公告)号: | CN102108260A | 公开(公告)日: | 2011-06-29 |
发明(设计)人: | 宋伟红;姚颖 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;H01L21/3105;H01L21/306;H01L21/321 |
代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于多晶硅抛光的化学机械抛光液,其含有磨料颗粒,表面活性剂和浆料稳定剂。本发明的化学机械抛光液在DRAM或者电容器以及层间介质的抛光中,调整了多晶硅材料的去除速率以及和其它硅基材料的选择比,避免了材料缺陷,使其达到了更好的表面形貌,实现了全局平坦化。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 多晶 抛光 化学 机械抛光 | ||
【主权项】:
一种用于多晶硅抛光的化学机械抛光液,含有磨料颗粒,表面活性剂和浆料稳定剂。
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