[发明专利]基于原子力显微镜声学显微系统的微纳米铁电畴结构的蚀刻装置有效

专利信息
申请号: 200910200840.1 申请日: 2009-12-25
公开(公告)号: CN102107853A 公开(公告)日: 2011-06-29
发明(设计)人: 曾华荣;殷庆瑞;刘黎明;惠森兴;李国荣 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: B82B3/00 分类号: B82B3/00;B81C1/00;B81C99/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200050*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及基于原子力显微镜声学显微系统的微纳米铁电畴结构的蚀刻装置,属于仪器研制领域。本发明包括微加工程序控制部件,脉冲高压激发部件,多探针构件,原子力显微镜声学显微系统四个部分。本发明具有纳米级微加工、高脉冲加工电压、高速响应特性、大面积微加工、微结构的高分辨率声学成像等独特优点,不同于目前商用原子力显微镜的微加工。
搜索关键词: 基于 原子 显微镜 声学 显微 系统 纳米 铁电畴 结构 蚀刻 装置
【主权项】:
基于原子力显微镜声学显微系统的微纳米铁电畴结构的蚀刻装置,包括:微加工程序控制部件(1),脉冲高压激发部件(2),多探针构件(3),原子力显微镜声学显微系统(4)四个部分,此四部分依次连接;微加工程序控制部件1发送微加工控制信号经脉冲高压激发部件(2)作用于多探针构件(3),多探针构件(3)对样品进行程序控制的微结构加工,所加工获得的微结构由原子力显微镜声学显微系统(4)进行声学显微成像,显示其结构图案。
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