[发明专利]用于光刻设备的对准信号采集系统与对准方法

摘要

一种用于光刻设备的对准信号采集系统，具有照明单元，用于提供紫外波长的激光脉冲；掩模台；掩模台位置测量单元；掩模台控制单元，用于控制掩模台移动；投影物镜，用于对掩模标记进行成像；工件台；工件台位置测量单元；工件台控制单元，用于控制工件台移动；光强采集单元，用于采集掩模标记的像扫描过工件台标记时透过的光强信号；和对准操作单元，用于控制扫描参数的下发、光强和位置的同步采样，实现由光强-位置采样对组成的对准信号的拟合处理和对准位置计算。

主权项

一种用于光刻设备的对准信号采集系统，用以实现工件台相对于掩模台位置的确定，包括：照明单元，用于提供紫外波长的激光脉冲；掩模台；掩模台位置测量单元；掩模台控制单元，用于控制掩模台移动，并根据掩模台位置测量单元所获得的掩模台位置数据将掩模标记定位到特定位置；投影物镜，用于对掩模标记进行成像；工件台；工件台位置测量单元；工件台控制单元，用于控制工件台移动，并根据工件台位置测量单元所获得的工件台的位置数据将工件台标记定位到特定位置，并根据对准扫描参数进行水平运动；光强采集单元，用于采集掩模标记的像扫描过工件台标记时透过的光强信号；以及对准操作单元，用于控制对准扫描参数的下发、光强和位置的同步采样，实现由光强‑位置采样对组成的对准信号的拟合处理和对准位置计算，其特征在于采用高斯函数作为对准信号拟合模型，该函数为： I ( x i ) = A e - ( cx i - a b ) 2 其中，xi为光强‑位置采样对中的位置数据，I(xi)为光强‑位置采样对中对应位置xi的光强数据，a、b、c和A为模型待定参数。