[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 200910203133.8 | 申请日： | 2009-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN101676805A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | D·M·斯劳特布姆;J·H·吉尔克;I·M·P·阿蒂斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和一种器件制造方法。进一步地，公开了一种用于探测由大致在第一方向上延长的至少一条线形成的延长图案的特性的探测方法。所述延长图案形成在衬底上或在衬底台上，优选地延伸超过至少50倍线宽的长度。所述延长图案是聚焦敏感的。所述探测方法包括在第一方向上移动衬底台和沿所述第一方向测量延长图案的特性。所述特性可以是延长图案在垂直于第一方向的第二方向上的物理特性的结果。在下一步骤中，可由所述延长图案的测量位置获得衬底台位置的校准。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于测量延长图案的特性的方法，其中所述延长图案由大致在第一方向上延长的一条或更多条线形成，每条线包括一个或更多个特征，所述方法包括步骤：使用所述一个或更多个特征，用于利用传感器、通过改变所述传感器和用于支撑包括所述延长图案的物体的支撑结构的相对位置而沿第一方向测量在不同位置处的所述延长图案的特性。
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