[发明专利]一种于内部原位生成空隙的抛光垫及其方法有效
| 申请号： | 200910203296.6 | 申请日： | 2009-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN101905439A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 宋健民 | 申请（专利权）人： | 宋健民 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24D3/00;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种于CMP抛光垫中原位(in-situ)产生孔洞的方法，包括在第一材料中渗入第二材料以形成一CMP抛光垫，所述第二材料具有摩擦侵蚀(frictional erosion)的抵抗能力，其小于第一材料的抵抗能力。因此所述CMP抛光垫具有两种不同摩擦侵蚀抵抗能力的材料。所述CMP抛光垫的工作表面能接触要被抛光的晶圆，其中在抛光动作进行时所述第二材料被摩擦侵蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 内部 原位 生成 空隙 抛光 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种在CMP抛光项目中于CMP抛光垫中原位产生孔洞的方法，其特征在于，包括：在具有抵抗摩擦侵蚀的第一抵抗能力的第一材料中渗入具有抵抗摩擦侵蚀且小于第一材料的第一抵抗能力的第二抵抗能力的第二材料，以形成包含具有两种不同摩擦侵蚀抵抗能力的材料的CMP抛光垫；使所述CMP抛光垫的一工作表面接触要被抛光的晶圆；以及当使抛光垫接触晶圆而进行抛光程序时，摩擦性侵蚀所述第二材料。
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