[发明专利]金相试样制作的工艺方法

摘要

本发明公开了一种金相试样制作的工艺方法，包括如下步骤：a)锯切样品快速磨削：使用改为砂轮磨盘的光谱退役的磨样机，用一次可装夹8-10个试样的磨样夹具快速磨样，手工握持，在磨样机上进行快速磨削，表面粗糙度至Ra1.6-0.8um，达到精密磨削的要求；b)金相磨样；c)金相抛光。与现有技术相比，本发明的优点在于，它可以方便、快速地进行金相制样工作，既保证制样质量、分析质量，又可节约成本、提高效率。

主权项

一种金相试样制作的工艺方法，其特征在于，包括如下步骤：a)锯切样品快速磨削：使用磨样机，所述磨样机是改用了砂轮磨盘的光谱退役的磨样机，用一次可装夹8-10个试样的磨样夹具快速磨样，手工握持，在磨样机上进行快速磨削，表面粗糙度至Ra1.6-0.8um，达到精密磨削的要求；b)金相磨样：采用金相磨抛机，可实现无级变速；采用比例为1∶2的酸酐类硬化剂与环氧脂肪族树脂组成的冷镶嵌树脂，填充磨抛机磨盘的凹槽，达到磨样适宜的硬度，同时磨制中砂粒不易划伤样面；进行整体浇注后保持水平、静置固化24小时后，将满溢的树脂硬皮用细砂纸磨平；在金相磨抛机上，在树脂平面上涂抹粘度较高的凡士林或黄油以粘贴水砂纸，用以抵消磨样中的摩擦力；使用400#砂纸磨削1.5分钟后，用洗涤灵加清水清理试样；再使用800#或600#砂纸，精磨削1.5分钟；c)金相抛光：使用3微米量级的精磨抛光布、粗抛光悬浮液进行抛光；使用3微米量级的通用抛光布、抛光悬浮液进行抛光；使用1微米量级的精抛光布、精抛光悬浮液进行抛光；使用0.04微米量级的超精抛光布、超精抛光悬浮液进行抛光。