[发明专利]显影装置及显影方法有效
申请号: | 200910205218.X | 申请日: | 2004-12-24 |
公开(公告)号: | CN101697065A | 公开(公告)日: | 2010-04-21 |
发明(设计)人: | 大河内厚;山本太郎;竹口博史;京田秀治;吉原孝介 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | G03F7/30 | 分类号: | G03F7/30 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 杨楷 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 将曝光完毕的基板保持于旋转吸盘并使其绕铅直轴旋转,一边从显影液喷嘴喷出显影液,一边从晶片外缘朝向中央部移动显影液喷嘴,由此向晶片表面供给显影液,其中所述显影液喷嘴具有纵长方向朝向晶片半径方向的垂直方向的狭缝状的喷出口。与使用具有小径圆形喷出口的喷嘴的情况相比,可以加快喷嘴的移动速度,实现显影时间的缩短。再者,由于可以减小基板上的显影液膜的厚度,所以可以节约显影液。 | ||
搜索关键词: | 显影 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种显影装置,其特征在于,具备:基板保持部,水平地保持具有曝光了的抗蚀剂的基板;旋转驱动装置,使保持基板的基板保持部绕铅直轴旋转;显影液喷嘴,具有细长带状的喷出口,朝向基板喷出显影液;移动装置,具有支承上述显影液喷嘴的喷嘴支承部,并且使上述显影液喷嘴大致沿基板的半径方向移动;使基板以500rpm以上的旋转速度绕铅直轴旋转,并且一边从上述喷出口喷出带状的显影液一边从基板外侧朝向中央部上方移动显影液喷嘴,向基板表面螺旋状供给显影液,之后在显影液喷嘴静止于基板中央部上方的状态下,向旋转的上述基板的中央部供给显影液。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910205218.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。