[发明专利]测量曝光机聚焦点的方法有效
| 申请号： | 200910205431.0 | 申请日： | 2009-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN102043343A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 杨要华;刘志成;张辰明;胡骏 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李丽 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种测量曝光机聚焦点的方法，包括：提供具有套刻标记的光掩模版，所述套刻标记具有至少两个相互平行的线条；在任一线条的外边缘形成位移线条，与该线条组成测试线条，所述位移线条与外边缘等长；将光掩模板上的套刻标记转移至光刻胶层上，形成套刻标记图形，所述套刻标记图形包含测试线条图形；测量套刻值；根据位移线条添加至不同位置，得到的套刻值与其对应的曝光聚焦点的关系，建立数据库；通过曝光机将光掩模版上的任意图形转移至晶圆上后，测量得到互相平行的两图形间的套刻值；根据计算得到的图形间套刻值以及数据库内的数据值，得到曝光机聚焦点的焦距。本发明测量时间短，效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 曝光 聚焦 方法 | ||
【主权项】：
一种测量曝光机聚焦点的方法，其特征在于，包括：提供具有套刻标记的光掩模版，所述套刻标记具有至少两个相互平行的线条；在任一线条的外边缘形成位移线条，与该线条组成测试线条，所述位移线条与外边缘等长；将光掩模板上的套刻标记转移至光刻胶层上，形成套刻标记图形，所述套刻标记图形包含测试线条图形；测量套刻值，所述套刻值为测试线条图形的中心点至相邻平行的线条图形中心点之间的距离减去相对的两条互相平行的线条图形中心点距离的差；根据位移线条添加至不同位置，得到的套刻值与其对应的曝光聚焦点的关系，建立数据库；通过曝光机将光掩模版上的任意图形转移至晶圆上后，测量得到互相平行的图形间的套刻值；根据计算得到的图形间套刻值以及数据库内的数据值，得到曝光机聚焦点的焦距。
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