[发明专利]检体分析装置以及检体分析装置的校正方法有效
| 申请号： | 200910206100.9 | 申请日： | 2009-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN101726611A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 福间大吾;芝田正治 | 申请（专利权）人： | 希森美康株式会社 |
| 主分类号： | G01N35/00 | 分类号： | G01N35/00;G01N35/02;G01N15/10;G01N21/64 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 崔成哲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种检体分析装置和检体分析装置的校正方法。该检体分析装置的特征在于，包括：第一测定单元，进行检体的测定；第二测定单元，进行检体的测定；以及信息处理单元，分别取得基于通过上述第一测定单元测定的结果的第一分析结果、和通过上述第二测定单元测定的结果的第二分析结果，其中，上述信息处理单元根据第一修正值修正上述第一分析结果，根据第二修正值修正上述第二分析结果，更新上述第一修正值，更新上述第二修正值，其中，上述信息处理单元还根据在上述第一测定单元测定了校正用检体时得到的分析结果，更新上述第一修正值，根据上述第二测定单元测定多次同一检体而得到的多个分析结果、和修正后分析结果，更新上述第二修正值。 | ||
| 搜索关键词： | 分析 装置 以及 校正 方法 | ||
【主权项】：
一种检体分析装置，其特征在于，包括：第一测定单元，进行检体的测定；第二测定单元，进行检体的测定；以及信息处理单元，分别取得基于通过上述第一测定单元测定的结果的第一分析结果、和基于通过上述第二测定单元测定的结果的第二分析结果，其中，上述信息处理单元根据第一修正值修正上述第一分析结果，根据第二修正值修正上述第二分析结果，根据在上述第一测定单元测定了校正用检体时得到的分析结果，更新上述第一修正值，根据上述第二测定单元测定多次同一检体而得到的多个分析结果、和修正后分析结果，更新上述第二修正值，其中，通过利用由上述信息处理单元更新的上述第一修正值来修正上述第一测定单元测定上述同一检体而得到的分析结果，得到上述修正后分析结果。
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