[发明专利]光学元件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200910206883.0 申请日: 2009-10-27
公开(公告)号: CN101726786A 公开(公告)日: 2010-06-09
发明(设计)人: 大塚贤治;松尾泰秀;泽井丈德 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;C09J7/00;C09J183/04
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李贵亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供耐光性及透光性高的光学零件及能够容易地制造这样的光学元件的光学元件制造方法,光学元件具有与接合的光学零件大致相同的折射率的接合膜,通过经由该接合膜以高的尺寸精度将两个光学零件彼此接合而得到。其特征在于,层叠光学元件(5)经下述工序制造:准备第一光学零件(2)及第二光学零件(4),在第一光学零件(2)的表面上通过等离子体聚合法形成接合膜(3)的工序(第一工序);通过将接合膜(3)暴露于等离子体而对接合膜(3)赋予能量,获得粘接性的工序(第二工序);经由接合膜3将第一光学零件(2)与第2光学零件(4)接合而得到层叠光学元件(5)的工序(第三工序)。通过调节等离子体聚合法的成膜条件,接合膜(3)的折射率成为与各光学零件(2、4)的折射率大致相同的值。
搜索关键词: 光学 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种光学元件,其特征在于,具有:具有透光性的第一光学零件及第二光学零件;接合所述第一光学零件和所述第二光学零件的接合膜,该接合膜通过等离子体聚合法形成,且该接合膜包含Si骨架及离去基团,该Si骨架具有含硅氧烷(Si-O)键的随机原子结构;该离去基团键合于该Si骨架,通过对所述接合膜的至少一部分区域赋予能量,使存在于所述接合膜表面的所述离去基团从所述Si骨架脱离,由此利用在所述接合膜获得的粘接性将所述第一光学零件及所述第二光学零件接合,所述接合膜如下成膜,即通过在所述等离子体聚合法中调节成膜条件,使其折射率相对于所述第一光学零件的折射率及所述第二光学零件的折射率的至少一方为大致相同的值。
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