[发明专利]使用反向成像方法的基于模型的辅助特征放置

摘要

本发明提供了一种使用反向成像方法的基于模型的辅助特征放置的方法和设备。某些实施方式提供了用于标识目标掩膜布局中放置辅助特征的位置的系统和技术。在操作期间，一种实施方式可以确定用于对目标掩膜布局进行采样的空间采样频率，其中按照该空间采样频率对目标掩膜布局进行采样防止了用于计算反向掩膜场的代价函数的梯度中的空间走样。接着，系统可以通过以空间采样频率对目标掩膜布局进行采样来生成灰度图像。系统继而可以通过迭代式修改灰度图像来计算反向掩膜场。系统可以使用代价函数的梯度来引导迭代式修改过程。接着，系统可以使用形态学算子来对反向掩膜场进行滤波，以及使用滤波后的反向掩膜场来标识目标掩膜布局中的辅助特征位置。

主权项

一种用于标识放置辅助特征的位置的方法，其中使用反向掩膜场来标识所述位置，其中所述反向掩膜场通过迭代式地修改表示目标掩膜布局的灰度图像来确定，以及其中对所述灰度图像的所述迭代式修改使用代价函数的梯度来执行，所述方法包括：确定用于对所述目标掩膜布局进行采样的空间采样频率，其中按照所述空间采样频率对所述目标掩膜布局进行采样防止了所述代价函数的梯度中的空间走样；通过按照所述空间采样频率对所述目标掩膜布局进行采样来生成所述灰度图像；计算所述反向掩膜场，包括迭代式地执行：使用所述代价函数的梯度来修改所述灰度图像，以及至少基于所述修改的灰度图像来更新所述代价函数的梯度；以及至少基于所述反向掩膜场来标识用于放置辅助特征的位置。