[发明专利]平台的控制方法

摘要

提供一种电子束描绘装置用的平台的控制方法，该平台的控制方法是在背面保持掩膜的情况下，不增大焦点调整机构的焦点高度的调整范围，而能够校正掩膜的高度偏移的影响。在XY平台(3)上避开已固定了标记台(4)的区域来搭载Z平台(5)，在设置在Z平台(5)上的保持机构(6)上载置掩膜(M)。使焦点调整机构的调整范围的中间值与标记台(4)的高度一致。测定标记台(4)的高度，并且测定掩膜(M)的多个测定点的高度，移动Z平台(5)，使这些测定点的高度中的最高值与最低值的中间值的高度与标记台(4)的高度一致。

主权项

一种平台的控制方法，该平台载置有掩膜，向该掩膜的表面照射电子束以描绘期望的图案，其特征在于，在能在与上述电子束的光轴方向正交的方向上移动的XY平台上固定用于调整上述电子束的焦点的标记台，测定上述标记台的高度，并且，避开固定有上述标记台的区域而在上述XY平台上搭载能在上述光轴方向上移动的Z平台，在上述Z平台上设置在背面保持上述掩膜的保持机构，测定上述保持机构上载置的掩膜上的多个测定点的高度，将测定的多个测定点的高度中的最高值与最低值的中间值作为掩膜的测定高度，比较上述标记台的测定高度与上述掩膜的测定高度并计算差分，基于计算出的差分信息使上述Z平台进行移动，以使上述掩膜的高度与上述标记台的高度一致。