[发明专利]对临界尺寸(CD)扫描电镜的CD提取进行建模有效
| 申请号： | 200910211301.8 | 申请日： | 2009-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN101877016A | 公开（公告）日： | 2010-11-03 |
| 发明（设计）人： | 张乔林 | 申请（专利权）人： | 新思科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及对临界尺寸(CD)扫描电镜的CD提取进行建模。本发明的一个实施例涉及一种在光刻工艺模型校准期间对临界尺寸(CD)扫描电镜(CD-SEM)提取进行建模的方法。在操作期间，该方法接收通过使用CD-SEM提取处理而获得的测量CD值，其中CD-SEM提取处理通过沿着多个电子束扫描测量特征的多个CD值，来确定该特征的测量CD值。然后该方法确定仿真CD值，其中仿真CD值至少基于均匀布置在目标特征周围的一组CD提取切割线来确定。在后续光刻工艺模型校准期间，该方法至少基于测量CD值和仿真CD值二者来拟合对光刻工艺的一个方面进行建模的参数。 | ||
| 搜索关键词： | 临界 尺寸 cd 扫描电镜 提取 进行 建模 | ||
【主权项】：
一种在光刻工艺模型校准期间用于对临界尺寸(CD)扫描电镜(CD-SEM)提取进行建模的方法，所述方法包括：接收通过使用CD-SEM提取处理获得的测量CD值，其中所述CD-SEM提取处理通过根据多个电子束扫描测量特征的多个CD值来确定用于所述特征的测量CD值；确定仿真CD值，其中仿真CD值是至少基于一组CD提取切割线确定的；以及在光刻工艺模型校准期间，至少基于所述测量CD值和所述仿真CD值来对光刻工艺的一个方面进行建模的参数进行拟合。
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