[发明专利]清洁半导体晶片的方法无效
| 申请号： | 200910211834.6 | 申请日： | 2009-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN101745507A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 榛原照男 | 申请（专利权）人： | 硅电子股份公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 程大军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供能够均匀地去除吸附于晶片表面的蜡并且能够降低颗粒的再次吸附及在清洁过程中清洁浴的过滤器堵塞的除蜡方法。(解决问题的方法)通过使用清洁液而除去吸附于晶片表面蜡的半导体晶片的清洁方法，所述清洁方法的特征在于所述清洁液含有微气泡。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 半导体 晶片 方法 | ||
【主权项】：
一种通过使用清洁液而除去吸附于半导体晶片表面的蜡的清洁方法，所述清洁方法的特征在于所述清洁液含有微气泡。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于硅电子股份公司，未经硅电子股份公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910211834.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
