[发明专利]用于2族金属氧化物膜的沉积的2族金属前体无效
申请号: | 200910212005.X | 申请日: | 2009-11-06 |
公开(公告)号: | CN101735082A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 雷新建;D·P·斯彭斯;J·A·T·诺曼;M·厄尔曼 | 申请(专利权)人: | 气体产品与化学公司 |
主分类号: | C07C225/14 | 分类号: | C07C225/14;C07C221/00;C07D307/14;C23C16/40 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 段晓玲;孙秀武 |
地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及含2族金属的多齿β-酮亚胺酸盐前体以及包括含2族金属的多齿β-酮亚胺酸盐前体的组合物,其中多齿β-酮亚胺酸盐前体将烷氧基引入到该分子的亚胺基部分中。化合物和组合物可用于采用化学蒸汽沉积(CVD)方法在基片如硅、金属氮化物、金属氧化物和其它金属层上制造含金属的膜。 | ||
搜索关键词: | 用于 金属 氧化物 沉积 | ||
【主权项】:
1.多齿β-酮亚胺酸盐,它选自:其中M是选自镁,钙,锶和钡中的2族金属;R1选自C1-C10烷基,C1-C10烷氧基烷基,C1-C10烷氧基,C1-C10氟烷基,C3-C10脂环族基,和C6-C10芳基;R2选自氢,C1-C10烷基,C1-C10烷氧基烷基,C1-C10烷氧基,C3-C10脂环族基,和C6-C10芳基;R3选自C1-C10烷基,C1-C10烷氧基烷基,C1-C10烷氧基,C3-C10脂环族基,和C6-C10芳基;R4是C1-C6线性或支化亚烷基;和R5选自C1-C10烷基,C1-C10氟烷基,C3-C10脂环族基,和C6-C10芳基,其中M是选自镁,钙,锶和钡中的2族金属;R1选自C1-C10烷基,C1-C10烷氧基烷基,C1-C10烷氧基,C1-C10氟烷基,C3-C10脂环族基,和C6-C10芳基;R2选自氢,C1-C10烷基,C1-C10烷氧基烷基,C1-C10烷氧基,C3-C10脂环族基,和C6-C10芳基;R3选自C1-C10烷基,C1-C10烷氧基烷基,C1-C10烷氧基,C3-C10脂环族基,和C6-C10芳基;R7是包括2或3个碳原子的有机基团;和n=3,4或5,和其中M是选自镁,钙,锶和钡中的2族金属;R1选自C1-C10烷基,C1-C10烷氧基烷基,C1-C10烷氧基,C1-C10氟烷基,C3-C10脂环族基,和C6-C10芳基;R2选自氢,C1-C10烷基,C1-C10烷氧基烷基,C1-C10烷氧基,C3-C10脂环族基,和C1-C10芳基;R3选自C1-C10烷基,C1-C10烷氧基烷基,C1-C10烷氧基,C3-C10脂环族基,和C6-C10芳基;R7是包括2或3个碳原子的有机基团;和R5和R6各自独立地选自C1-C10烷基,C1-C10烷氧基烷基,C1-C10烷氧基,C1-C10氟烷基,C3-C10脂环族基,和C1-C10芳基。
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