[发明专利]三(8-羟基喹啉-5-磺酸根)合铝配阴离子插层水滑石复合发光材料及其制备方法有效
申请号: | 200910217552.7 | 申请日: | 2009-12-31 |
公开(公告)号: | CN101768435A | 公开(公告)日: | 2010-07-07 |
发明(设计)人: | 陆军;李双德;卫敏;段雪 | 申请(专利权)人: | 北京化工大学 |
主分类号: | C09K11/06 | 分类号: | C09K11/06 |
代理公司: | 北京太兆天元知识产权代理有限责任公司 11108 | 代理人: | 张韬;张洪年 |
地址: | 100029北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了属于无机/有机复合发光材料技术领域的一种三(8-羟基喹啉-5-磺酸根)合铝配阴离子插层水滑石的蓝光发射材料及其制备方法。本发明选取与三(8-羟基喹啉-5-磺酸根)合铝配阴离子相似分子长度的表面活性剂,通过共沉淀的方法得到均匀分散于水滑石层间的三(8-羟基喹啉-5-磺酸根)合铝配阴离子插层水滑石的复合发光材料。该方法实现了三(8-羟基喹啉-5-磺酸根)合铝配阴离子的固定化,有效地提高了该金属配合物发光分子的热稳定性,实现了绿光发光材料三(8-羟基喹啉-5-磺酸钠)合铝到其水滑石插层产物的蓝光发光材料的转变。 | ||
搜索关键词: | 羟基 喹啉 酸根 合铝配 阴离子 插层水 滑石 复合 发光 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种三(8-羟基喹啉-5-磺酸根)合铝配阴离子插层水滑石复合发光材料,其特征在于,该复合发光材料的化学式为:[(M2+)1-x(M3+)x(OH)2]x+(A-)x·mH2O,其中0.1≤x≤0.33,m=3-6为层间结晶水分子数,M2+代表二价金属阳离子,M3+代表三价金属离子,A-代表三(8-羟基喹啉-5-磺酸根)合铝配阴离子和十二烷基磺酸根阴离子,三(8-羟基喹啉-5-磺酸根)合铝配阴离子与十二烷基磺酸根阴离子的摩尔比为0.033∶1-16.667∶1;该复合发光材料的晶体结构为类水滑石材料的晶体结构,金属阳离子和氢氧根离子以共价键构成八面体,通过共边形成片状结构,三(8-羟基喹啉-5-磺酸根)合铝配阴离子插入水滑石层间构成均匀分散的三(8-羟基喹啉-5-磺酸根)合铝配阴离子插层的超分子层状复合发光材料。
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