[发明专利]凹面全息光栅制作中光栅基底的双光束定位方法

摘要

凹面全息光栅制作中光栅基底的双光束定位方法，属于光谱技术领域中涉及的一种光栅基底的定位方法。要解决的技术问题是提供一种凹面全息光栅制作中光栅基底的双光束定位方法。技术方案为：步骤一，配备一套凹面全息光栅曝光装置；步骤二，在步骤一所配备的凹面全息光栅曝光装置中加入两个定位用的监测激光器和两个分划板；步骤三，安装并调整光栅基底到正确位置；至此，待制作的光栅基底双光束定位完毕。通过两束监测激光对光栅基底进行精确定位是一种简便有效的控制制作结构参数的方法，能够有效的提高凹面全息光栅的制作精度。

主权项

凹面全息光栅制作中光栅基底的双光束定位方法，其特征在于：步骤一，配备一套凹面全息光栅曝光装置，包括记录激光器(1)、第一平面反射镜(2)、分光镜(3)、第二平面反射镜(4)、第三平面反射镜(5)、第一空间滤波器(6)、第二空间滤波器(7)、光栅基底(9)；在记录激光器(1)的激光束传播方向的光轴上置有第一平面反射镜(2)，第一平面反射镜(2)与光轴成45°角安装；在第一平面反射镜(2)的反射光的光路上置有分光镜(3)，在分光镜(3)的反射光的光路上置有第二平面反射镜(4)，在分光镜(3)的透射光的光路上置有第三平面反射镜(5)，在第二平面反射镜(4)的反射光的光路上置有第一空间滤波器(6)，在第三平面反射镜(5)的反射光的光路上置有第二空间滤波器(7)，从第一空间滤波器(6)和第二空间滤波器(7)出射的球面光波在空间交汇区域形成干涉场(8)，两束球面光波的波源点分别位于第一空间滤波器(6)和第二空间滤波器(7)的针孔处，在干涉场(8)内放置被制作的凹面全息光栅的光栅基底(9)，光栅基底(9)的中心点O与两束记录球面光波的波源点之间的距离以及两束记录球面光波中心主光线与光栅基底(9)的中心法线的夹角γ、δ都按照设计好的制作结构参数调整好，光栅基底(9)的位置就是全息光栅的曝光位置；步骤二，在步骤一所配备的凹面全息光栅曝光装置中加入两个定位用的监测激光器和两个分划板，即第一监测激光器(10)和第二监测激光器(11)、第一分划板(12)和第二分划板(13)，形成记录光栅基底位置的装置，在 第一监测激光器(10)的出光孔处置有第一分划板(12)，在第二监测激光器(11)的出光孔处置有第二分划板(13)，第一监测激光器(10)的出射光束通过第一分划板(12)的中心点入射在光栅基底(9)的中心，反射后的反射光通过第二分划板(13)的中心，第二监测激光器(11)的出射光束通过第二分划板(13)的中心点入射在光栅基底(9)的中心，反射后的反射光通过第一分划板(12)的中心；步骤三，步骤二已将光栅基底(9)的空间位置记录在第一分划板(12)和第二分划板(13)上，取下光栅基底(9)，将涂有光刻胶的待制作光栅基底放置到卡具上，调整卡具的前后、旋转及俯仰使第一监测激光器(10)和第二监测激光器(11)发射的激光束经经待制作光栅基底的反射光束分别打在第二分划板(13)和第一分划板(12)的中心，至此，待制作光栅基底的位置就恢复到步骤二中光栅基底(9)的位置，待制作的光栅基底双光束定位完毕。