[发明专利]平面全息光栅制作中光栅基底的零级光定位方法

摘要

平面全息光栅制作中光栅基底的零级光定位方法，属于光谱技术领域中涉及的一种光栅基底的定位方法。要解决的技术问题是提供一种平面全息光栅制作中光栅基底的零级光定位方法。技术方案为：步骤一，配备一套平面全息光栅曝光装置，该装置与已有技术中的全息光栅曝光装置完全一致；步骤二，在平面全息光栅曝光装置中，加入监测激光器和一个分划板，将标准光栅的位置记录在分划板上；步骤三，加入另一个分划板，将监测激光光束的位置记录到两个分划板上；步骤四，安装并调整光栅基底使监测激光光束的反射光返回分划板中心，此时进行曝光就能制作出具有标准光栅常数的平面全息光栅。该方法能够快速准确的定位光栅基底，提高制作效率。

主权项

平面全息光栅制作中光栅基底的零级光定位方法，是利用平面全息光栅曝光装置实现的，其特征在于：步骤一，配备一套平面全息光栅曝光装置，该装置与已有技术中的全息光栅曝光装置完全一致，包括激光光源(1)、第一平面反射镜(2)、第二平面反射镜(3)、空间滤波器(4)、准直反射镜(5)、第三平面反射镜(6)、第四平面反射镜(7)、第五平面反射镜(8)、第六平面反射镜(9)、半反半透镜(10)、标准机刻反射光栅(11)和接收屏(12)；调整第六平面反射镜(9)、半反半透镜(10)和标准机刻反射光栅(11)使得在接收屏(12)上能够观察到铅直并清晰可见的干涉条纹；步骤二，在平面全息光栅曝光装置中，在正对标准机刻反射光栅(11)的一侧置有监测激光器(13)，在监测激光器(13)的出射光路前方置有第一分划板(14)，监测激光器(13)的出射光束穿过第一分划板(14)中心正入射到标准机刻反射光栅(11)上，零级衍射光原路返回第一分划板(14)中心；步骤三，从平面全息光栅曝光装置光路结构及零级光定位装置中取下标准机刻反射光栅(11)、第五平面反射镜(8)和第六平面反射镜(9)，并确保半反半透镜(10)、接收屏(12)、监测激光器(13)和第一分划板(14)的位置不变，这时调节第三平面反射镜(6)和第四平面反射镜(7)的反射光分别经半反半透镜(10)透射和反射后叠加，使接收屏(12)上的干涉条纹的方向和数量分别与标准机刻反射光栅(11)所产生的干涉条纹相同，在监测激光器(13)的出射光束的传播方向上半反半透镜(10)的另一侧远处放置第二分划板(15)，使 监测激光器(13)的出射光束穿过第二分划板(15)的中心，这时将监测激光器(13)移到第二分划板(15)后方并使其出射光束先后通过第二分划板(15)和第一分划板(14)的中心；步骤四，取下半反半透镜(10)、接收屏(12)和第一分划板(14)，将涂有光刻胶的待制作光栅基底(16)放置到标准机刻反射光栅(11)的位置，光栅基底(16)的装卡具安装在能够调整旋转、俯仰的精密调整台上，调整光栅基底(16)使监测激光器(13)的出射光束经光栅基底(16)的反射光原路返回第二分划板(15)的中心，此时进行曝光就能制作出具有标准光栅常数的平面全息光栅。