[发明专利]提高空穴传输能力的空穴传输材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200910218799.0 申请日: 2009-10-30
公开(公告)号: CN101717630A 公开(公告)日: 2010-06-02
发明(设计)人: 彭晶;李驰 申请(专利权)人: 彩虹集团公司
主分类号: C09K11/06 分类号: C09K11/06;C07D495/04
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 汪人和
地址: 712021*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种提高空穴传输能力的空穴传输材料及其制备方法,其中,空穴传输材料的分子结构式为:,其中,Ar为噻吩类衍生物,TP1和TP2分别为三苯胺、N,N,N′,N′-四苯基-1,4-苯二胺或N,N,N′,N′-四苯基-1,1′-联苯-4,4′-二胺的其中之一,如此,由于在该材料中增加了噻吩,因此,将该材料作为空穴传输材料应用于有机光电器件时,空穴传输层具有较强的空穴传输能力。
搜索关键词: 提高 空穴 传输 能力 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种空穴传输材料,其特征在于:具有以下分子结构:其中,Ar为噻吩类衍生物,其结构为TP1、TP2分别为三苯胺、N,N,N′,N′-四苯基-1,4-苯二胺或N,N,N′,N′-四苯基-1,1′-联苯-4,4′-二胺的其中之一,其结构分别如下:三苯胺:N,N,N′,N′-四苯基-1,4-苯二胺:N,N,N′,N′-四苯基-1,1′-联苯-4,4′-二胺:
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