[发明专利]基于平面标志物的位姿处理方法

摘要

本发明公开了一种基于平面标志物的位姿处理方法，用于解决现有技术对于平面标志物的位姿处理正确率低的技术问题。本发明依据标志物检测和识别方法得到标志物的相关信息，以三维空间中的共线误差作为优化函数，由得到的2D和3D点之间的对应关系确定相机的位置和姿态，运用RPP算法获得使OI算法中的共线误差函数取得局部极值的另一解，比较得到的两个局部极值解，取共线误差较小的解作为最终处理结果。由于采用RPP算法，解决了姿态不确定性问题，将平面标志物的位姿处理正确率由现有技术的50％左右提高到95％以上。

主权项

1.一种基于平面标志物的位姿处理方法，其特征在于包括下述步骤：(a)选取ARToolkitplus提供的Simple ID标志物作为增强现实系统的平面标志物，实时处理过程中，依据标志物检测和识别方法得到标志物的相关信息，以三维空间中的共线误差作为优化函数，OI算法由得到的2D和3D点之间的对应关系确定相机的位置和姿态；(b)由上述OI算法得到的初始值P^1=(R^1,t^1),]]>运用RPP算法获得使OI算法中的共线误差函数取得局部极值的另一解，比较得到的两个局部极值解，取共线误差较小的解作为最终处理结果；(c)由v~i=Rtv^i,]]>t~1=Rtt^1,]]>R~1=RtR^1]]>变换坐标系得到P~1=(R~1,t~1);]]>(d)根据Eos(R~,t~)=Σi=1n||(I-v~iv~itv~itv~i)(R~R~zR~z-1pi+t~)||2,]]>R~1R~z=Rz(γ~1)Ry(β~1)Rz(α~1)]]>以及v~i∝Rz(γ)Ry(β)p~i+t~]]>计算并得到和(e)固定γ=γ~1,]]>计算与Eos(γ,β,t~)=Σi=1n||(I-v~iv~itv~itv~i)(Rz(γ)Ry(β)pi+t~)||2]]>式的所有局部极值相对应的参数β和(f)对所有局部极值，做逆变换得到(g)对所有的运用位姿处理方法，得到最终的P_i^*；(h)选取使E_os最小的解作为处理结果。