[发明专利]以纳微米球制作图案化基板的方法无效

专利信息
申请号: 200910221746.4 申请日: 2009-11-16
公开(公告)号: CN102063013A 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: 詹佳桦;侯佳宏;陈清仁;陈启昌 申请(专利权)人: 国立中央大学
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;H01L33/22;H01L31/0236
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周长兴
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是有关于一种以纳微米球制作图案化基板的方法,包括:(A)提供一基板,其中基板表面具有一光阻层;(B)涂布复数纳微米球于光阻层表面,以形成一纳微米球层;(C)进行曝光显影工艺,以图案化光阻层;以及(D)移除纳微米球层。此外,于移除纳微米球层后,还包括:(E1)以图案化的光阻层做为一蚀刻屏蔽,以蚀刻基板;以及(E2)移除光阻层,以得到一图案化基板,其中图案化基板具有复数凹槽。
搜索关键词: 微米 制作 图案 化基板 方法
【主权项】:
一种以纳微米球制作图案化基板的方法,包括:A)提供一基板,其中该基板表面具有一光阻层;B)涂布复数纳微米球于该光阻层表面,以形成一纳微米球层;C)进行曝光显影工艺,以图案化该光阻层;以及D)移除该纳微米球层。
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