[发明专利]通过气体分散器的等离子体均匀度控制

摘要

本发明提供了用以在处理室中散布气体的一气体分散板的实施例。在一实施例中，用于等离子体处理室的气体分散板组件至少包含一散布器板，该散布器板具有穿过其上游侧与下游侧之间的气体通道，与位于该些气体通道的下游侧的中空阴极腔穴。该散布器板的下游侧具有一弯曲性，以改善通过PECVD沉积的薄膜层(特别是氮化硅与非晶硅膜层)的厚度均匀性与膜层性质均匀性。弯曲性较佳地是由圆或椭圆的一弧、位在散布器板的中心点的顶点来描述。在一态样中，中空阴极腔穴体积密度、表面积密度、或散布器的腔穴密度是由散布器的中心增加至外缘。本发明也提供了用以制造这样的散布器板的方法。

主权项

一种装置，包括：处理室；基材支撑件，设置在该处理室中；分散器板，在该处理室中相对于该基材支撑件设置，该分散器板具有面对该基材支撑件且基本上内凹的一侧、以及数个延伸贯穿该分散器板的气体通道，其中的每一个气体通道具有中空阴极腔穴，该中空阴极腔穴基本上邻近该内凹的一侧，该分散器板与该基材支撑件之间的间隔在0.800英寸到0.550英寸之间变化。