[发明专利]一种铜铟镓硒纳米颗粒制作方法无效
申请号: | 200910223958.6 | 申请日: | 2009-11-20 |
公开(公告)号: | CN102070121A | 公开(公告)日: | 2011-05-25 |
发明(设计)人: | 杨益郎 | 申请(专利权)人: | 正峰新能源股份有限公司 |
主分类号: | B82B3/00 | 分类号: | B82B3/00;H01L31/18 |
代理公司: | 北京华夏博通专利事务所 11264 | 代理人: | 刘俊 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种铜铟镓硒纳米颗粒制作方法,主要是利用湿式砂磨法,包括个别研磨处理、混合均质处理、初级研磨处理及进阶研磨处理,其中个别研磨处理将含有铜、铟、镓及/或硒的个别颗粒或化合物颗粒研磨成500纳米至600纳米的个别研磨物,混合均质处理将所有个别研磨物混合成混合均质物,初级研磨处理将混合均质物研磨成100纳米至200纳米的初级研磨物,进阶研磨处理将初级研磨物研磨成50纳米以下的进阶研磨物,当作用以制作铜铟镓硒太阳能电池的吸收层的铜铟镓硒纳米颗粒。 | ||
搜索关键词: | 一种 铜铟镓硒 纳米 颗粒 制作方法 | ||
【主权项】:
一种铜铟镓硒纳米颗粒制作方法,用以形成铜铟镓硒纳米颗粒,其特征在于,该方法包括:一个别研磨处理,利用一研磨机,并使用一第一研磨媒介以及一第一研磨溶剂,分别对多个被研磨物进行研磨,形成多个个别研磨物,所述被研磨物包括铜、铟、镓或/及硒的个别颗粒或化合物,化合物包括硒化铜、硒化铟以及硒化镓,且所述个别研磨物的颗粒大小为500纳米至600纳米;一混合均质处理,利用一均质机,使用一混合均质溶剂包含黏结剂与接口活性剂,对所述个别研磨物进行混合与均质,以形成一混合均质物;一初级研磨处理,利用该研磨机,并使用一第二研磨媒介、一第二研磨溶剂以及一分散剂,对该混合均质物进行研磨,形成一初级研磨物,该初级研磨物的颗粒大小为100纳米至200纳米;以及一进阶研磨处理,利用该研磨机,并使用一第三研磨媒介、一第三研磨溶剂以及该分散剂,对该初级研磨物进行研磨,形成一进阶研磨物,该进阶研磨物的颗粒大小为50纳米以下,该进阶研磨物为该铜铟镓硒纳米颗粒。
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