[发明专利]一种化学机械抛光液及其应用有效
| 申请号： | 200910224684.2 | 申请日： | 2009-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN101747844A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;蔡鑫元 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/04;C23F3/06 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光液及其应用，其含有含颜料亲和基团的星型聚合物、研磨颗粒、络合剂、氧化剂和水。使用本发明的抛光液可以在保持较高的铜去除速率的情况下，减少抛光后铜块的凹陷，防止金属铜的局部和整体腐蚀，并且可以降低铜在常温和抛光温度下的静态腐蚀速率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，其含有：含颜料亲和基团的星型聚合物、研磨颗粒、络合剂、氧化剂和水。
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