[发明专利]带电流调整层的AlGaInP系LED芯片及其制备方法无效
申请号: | 200910230811.X | 申请日: | 2009-11-25 |
公开(公告)号: | CN101714605A | 公开(公告)日: | 2010-05-26 |
发明(设计)人: | 吴作贵;张新;李树强;徐现刚 | 申请(专利权)人: | 山东华光光电子有限公司 |
主分类号: | H01L33/10 | 分类号: | H01L33/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 250101 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供了一种带电流调整层的AlGaInP系LED芯片及其制备方法。该LED芯片自下而上包括下电极、衬底、布拉格反射层、下限制层、有源区、上限制层、电流扩展层和上电极,在上限制层和电流扩展层之间设有电流调整层,电流调整层上设有与上电极形状和位置对应一致的电流阻挡区。制备方法包括步骤:(1)在衬底上依次外延生长各层,制得外延片;(2)通过湿氧化在电流调整层的湿氧化孔位置处形成电流阻挡区;(3)在外延片上光刻出所需形状和位置的上电极,在减薄的衬底下表面形成下电极。本发明在外延生长中一次性完成电流调整层和电流扩展层,有效的减小甚至完全阻止上电极正下方的电流输运,提高了LED的发光效率和光提取效率。 | ||
搜索关键词: | 电流 调整 algainp led 芯片 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种带电流调整层的AlGaInP系LED芯片,自下而上包括下电极、衬底、布拉格反射层、下限制层、有源区、上限制层、电流扩展层和上电极,其特征是:在上限制层和电流扩展层之间设有电流调整层,电流扩展层和电流调整层形成复合窗口层,该电流调整层采用易氧化材料高铝含量的铝镓砷AlxGa1-xAs材料,铝的摩尔量大于80%而小于100%,电流调整层上设有绝缘的三氧化二铝电流阻挡区,且电流阻挡区与上电极形状和位置对应一致。
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