[发明专利]阵列基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910235277.1 申请日: 2009-09-29
公开(公告)号: CN102034810A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 郭建;周伟峰;明星;陈永;肖光辉 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L23/528;H01L21/82;H01L21/768;G02F1/1362;G02F1/1368
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 刘芳
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种阵列基板及其制造方法。该阵列基板包括衬底基板,其上形成有交叉的栅级线和数据线,每个像素单元中设置有TFT开关和像素电极,其中:像素单元中还形成有修补线,修补线与栅极线和/或数据线同层形成,且与栅极线、数据线和TFT开关相互间隔;至少修补线的表层采用活性金属制成,活性金属的表面基于金属针孔效应形成有针刺,针刺至少穿过其上的绝缘层。本发明利用了活性金属的针孔效应所产生的针刺,在出现非正常显示时,通过连接相邻像素单元中的针刺即可实现导电结构的连接。降低了修复难度,提高了液晶显示器的显示品质。
搜索关键词: 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
一种阵列基板,包括衬底基板,交叉的栅级线和数据线围设形成多个像素单元,每个像素单元中设置有TFT开关和像素电极,其特征在于:像素单元中还形成有修补线,所述修补线与所述栅极线和/或数据线同层形成,且与所述栅极线、数据线和TFT开关相互间隔;至少所述修补线的表层采用活性金属制成,所述活性金属的表面基于金属针孔效应形成有针刺,所述针刺至少穿过其上的绝缘层。
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