[发明专利]掺杂剂锌辅助的自催化法生长InN纳米棒材料的方法无效

专利信息
申请号: 200910237095.8 申请日: 2009-11-04
公开(公告)号: CN102050432A 公开(公告)日: 2011-05-11
发明(设计)人: 宋华平;杨安丽;郭严;魏鸿源;刘祥林;朱勤生;杨少延;王占国 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: C01B21/06 分类号: C01B21/06;B82B3/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种掺杂剂锌辅助的自催化法生长InN纳米棒材料的方法,包含以下步骤:步骤1:选用一衬底,并在金属有机化学气相外延设备的反应室中对衬底进行高温氮化处理;步骤2:用氢气或者氮气作为载气,在衬底上生长一低温III族氮化物缓冲层,该缓冲层的作用是用来提高InN纳米棒的晶体质量和形貌;步骤3:用氮气作为载气将含铟源、锌源的金属有机化合物和氨气通入到反应室,在氮化镓缓冲层上制备生长InN纳米棒,在InN纳米棒顶端同时生成金属In小球;步骤4:关闭铟源和锌源,反应室温度降到350℃以下关闭氨气,继续通氨气的作用是抑制InN材料的高温热分解;步骤5:降温,反应室温度由350℃降至室温后,将样品取出。
搜索关键词: 掺杂 辅助 催化 生长 inn 纳米 材料 方法
【主权项】:
一种掺杂剂锌辅助的自催化法生长InN纳米棒材料的方法,包含以下步骤:步骤1:选用一衬底,并在金属有机化学气相外延设备的反应室中对衬底进行高温氮化处理;步骤2:用氢气或者氮气作为载气,在衬底上生长一低温III族氮化物缓冲层,该缓冲层的作用是用来提高InN纳米棒的晶体质量和形貌;步骤3:用氮气作为载气将含铟源、锌源的金属有机化合物和氨气通入到反应室,在氮化镓缓冲层上制备生长InN纳米棒,在InN纳米棒顶端同时生成金属In小球;步骤4:关闭铟源和锌源,反应室温度降到350℃以下关闭氨气,继续通氨气的作用是抑制InN材料的高温热分解;步骤5:降温,反应室温度由350℃降至室温后,将样品取出。
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