[发明专利]大气传输腔室及其内部气流改变方法、等离子体处理设备

摘要

本发明提供一种用于等离子体处理设备的大气传输腔室，包括缓存器及大气机械手等组件，并且在对应缓存器存放晶片区域的腔室侧壁上设置有侧壁负压获得装置，用以在大气传输腔室内的缓存器附近产生自腔室内部向腔室外部流动的局部气流，从而及时排出缓存器附近的微细颗粒。此外，本发明还提供一种改变大气传输腔室内局部气流的方法，以及应用上述大气传输腔室和/或改变大气传输腔室内局部气流的方法的等离子体处理设备。本发明提供的大气传输腔室、改变大气传输腔室内局部气流的方法及等离子体处理设备能够有效地降低晶片在传输过程中的颗粒污染，从而确保晶片加工良率。

主权项

一种用于等离子体处理设备的大气传输腔室，在其内部设置有大气机械手和至少一个缓存器，其特征在于，所述大气传输腔室还设置有侧壁负压获得装置，所述侧壁负压获得装置临近所述缓存器并位于所述大气传输腔室的侧壁上，用于在大气传输腔室内的缓存器附近产生自腔室内部向腔室外部流动的局部气流。