[发明专利]碱性铜蚀刻液的再生液及提高其蚀刻速度的方法无效
申请号: | 200910238823.7 | 申请日: | 2009-12-30 |
公开(公告)号: | CN102115889A | 公开(公告)日: | 2011-07-06 |
发明(设计)人: | 李建光;何世武;崔磊;赵业伟;罗宝奎;李琪杰 | 申请(专利权)人: | 深圳市洁驰科技有限公司 |
主分类号: | C23F1/34 | 分类号: | C23F1/34;C23F1/46 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518101 广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种碱性铜蚀刻液的再生液及提高其蚀刻速度的方法,该碱性铜蚀刻液的再生液中含有第一提速剂含NH2-CS-NH-基团的有机硫代化合物,以及第二提速剂,该第二提速剂选自亚氯酸根离子的化合物和过硼酸根离子的化合物中至少一种物质。本发明的能提高碱性铜蚀刻液的再生液的方法,该再生液中还使用有效量的第二提速剂加入到碱性铜蚀刻液的再生液中,该第二提速剂选自亚氯酸根离子的化合物和过硼酸根离子的化合物中至少一种物质。本发明的碱性铜蚀刻液的再生液,可以有效的提高碱性蚀刻液的蚀刻速度,并能保持蚀刻速度的稳定,从而提高了蚀刻再生液的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 碱性 蚀刻 再生 提高 速度 方法 | ||
【主权项】:
一种碱性铜蚀刻液的再生液,其中含有提速剂,所述提速剂包括第一提速剂,所述第一提速剂为含NH2‑CS‑NH‑基团的有机硫代化合物,其特征在于,所述提速剂还包括有效量的第二提速剂,所述第二提速剂选自亚氯酸根离子的化合物和过硼酸根离子的化合物中至少一种物质。
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