[发明专利]一种太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法

摘要

一种太阳光谱选择性吸收涂层，它采用磁控溅射技术制备，吸热体由基底到顶部成三层膜结构：第一层，由具有高红外反射率的铜或铝金属基底作为红外反射层；第二层，由具有不同折射率和厚度的类金属层和类介质层两个亚层构成吸收层；第三层，由SiON薄膜作为减反射层。其制备方法：第一层红外反射层，将Cu或Al金属片进行超声清洗和抛光处理；第二层的类金属层，由两种金属的合金靶，以Ar气为溅射气体，在N2为反应气体之下，采用直流电源，反应溅射制备而成；类介质层，由两种金属的合金靶，以Ar气为溅射气体，在N2、O2为反应气体之下，采用直流电源，反应溅射而成；第三层减反射层，采用SiN靶，以Ar气为溅射气体，N2、O2为反应气体，采用射频电源，反应溅射制备，至此完成。

主权项

一种太阳能光谱选择性吸收涂层，它采用磁控溅射技术制备，吸热体由基底到顶部成三层膜结构，其特征在于：其结构组成如下：第一层，将抛光的铜或铝金属基底置于底层作红外反射层，发射率低于0.05；第二层，由具有不同折射率和厚度的两个亚层构成吸收层，分别为高折射率的类金属层和低折射率的类介质层；类金属层的成分是MXN，是两种金属M、X与它们的氮化物MNx、XNy的多相混合物，M和X分别代表钛、铝、铌、铜或铁；金属相占总体积的体积比为50％～70％；类介质层的成分是MXON，是金属M和X与他们的氮氧化物MOxNy、XOxNy的多相混合物，金属相占总体积的体积比为20％～40％；第三层，由氮氧化硅薄膜构成减反射层。