[发明专利]一种光刻机硅片台双台交换方法及系统有效
申请号: | 200910241910.8 | 申请日: | 2009-12-15 |
公开(公告)号: | CN101718959A | 公开(公告)日: | 2010-06-02 |
发明(设计)人: | 朱煜;张鸣;徐登峰;汪劲松;董立立;杨开明;尹文生;胡金春;许岩;马竞;田丽;李玉洁;王婧 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 邸更岩 |
地址: | 100084 北京市10*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种光刻机硅片台双台交换方法及系统,该系统含有基台、两个硅片台、两个X方向直线导轨、两个Y方向直线导轨、两个硅片台辅助驱动单元以及四个单自由度辅助驱动单元;所述系统还包括两个主驱动单元,Y方向导轨在主驱动单元驱动下可实现沿X方向的移动和基台平面内的旋转运动;当两Y方向导轨旋转至沿X方向移动互不干涉时,两Y方向导轨带着硅片台沿X方向相向移动,当两Y方向导轨由相向移动转变为反向移动时,两Y方向导轨则做反向旋转运动,即可实现两个硅片台的位置交换;本发明采用两个导轨同时旋转,节约了双硅片台交换时间,简化了系统结构,提高了系统的效率、空间利用率和精度,还避免了硅片台尺寸一致性、零部件加工和装配的极高精度要求等缺陷。 | ||
搜索关键词: | 一种 光刻 硅片 台双台 交换 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种光刻机双硅片台交换方法,其特征在于该方法按如下步骤进行:a)两硅片台交换位置时,首先,第一主驱动单元(10)驱动第一Y方向导轨(4)及第一硅片台(3)在基台(5)平面内做顺时针方向旋转运动,同时第二主驱动单元(13)驱动第二Y方向导轨(9)及第二硅片台(8)在基台(5)平面内也做顺时针方向旋转运动,且第一硅片台辅助驱动单元(11)驱动第一硅片台(3)沿第一Y方向导轨(4)朝向第一主驱动单元(10)方向运动,第二硅片台辅助驱动单元(12)驱动第二硅片台(8)沿第二Y方向导轨(9)朝向第二主驱动单元(13)方向运动;b)当两Y方向导轨旋转至沿X方向移动时互不干涉时,第一主驱动单元(10)驱动第一Y方向导轨(4)及第一硅片台(3)沿X负方向运动,同时第二主驱动单元(13)驱动第二Y方向导轨(9)及第二硅片台(8)沿X正方向运动,且第一单自由度辅助驱动单元(1)沿X负方向运动,第三单自由度辅助驱动单元(15)沿X正方向运动;c)当两Y方向导轨由相向移动转变为反向移动时,两Y方向导轨带动硅片台做反方向旋转运动,且第一硅片台辅助驱动单元(11)驱动第一硅片台(3)沿第一Y方向导轨(4)远离第一主驱动单元(10)方向运动,第二硅片台辅助驱动单元(12)驱动第二硅片台(8)沿第二Y方向导轨(9)远离第二主驱动单元(13)方向运动;同时,第二单自由度辅助驱动单元(7)运动至第二Y方向导轨(9)的对应位置并与之对接,并与第二主驱动单元(13)及第二辅助驱动单元(12)共同将第二硅片台(8)驱于曝光工位,第四单自由度辅助驱动单元(16)运动至第一Y方向导轨(4)的对应位置并与之对接,并与第一主驱动单元(10)及第一辅助驱动单元(11)共同将第一硅片台(3)驱于预处理工位,这样就完成了第一硅片台(3)和第二硅片台(8)的位置交换,并进入下一循环。
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